(电报解读)有望生产2纳米半导体，这一技术在特定领域有替代传统光学光刻的可能，在XR、3D传感器、存储领域均有应用，这家公司与全球龙头有业务合作(佳能高管:压印技术有望造2纳米半导体]《科创板日报》25日讯，据日经中文网，佳能半导体机器业务部长岩本和德表示，纳米压印在晶圆上只压印1次，就可以在合适的位置形成复杂的二维或三维电路。如果改进掩膜，甚至可以生产电路线宽为2纳米的产品。纳米压印特点是设备构造简单。与使用很多透镜，一边照射光一边烧刻电路的传统方法相比，耗电量降至10分之1。设备价格也相对便宜，可以低成本实现半导体微细化。纳米压印(NIL)技术精度有望达到极紫外光刻水平，且具有成本优势，或在部分领域替代光学光刻技术。在精度方面，目前ASMLEUV 光刻机与佳能的NIL技术能够实现的最小等效节点分别为3nm与5nm。虽然目前NIL的精度稍逊，但据佳能官网披露，Nl在未来有港力 达到2nm节点，在成本方面，佳能披露在15nm制程下，NL技术相比EUV能减少90%，成本降低约23%.纳米压印为推动XR产业成熟的关键制造技术。据深圳市微纳制造产业促进会研究部预测，纳米压印设备在AR市场的应用有望迎来持续增长，2025年中国AR领域纳米压印设备出货量有望超过120台/套。纳米压印在3D传感领域的应用主要为DOE/Diffuser。DOE是结构光和dTOF方案3D传感模组中最关键的核心元件之一，用纳米压印代替传统的光刻刻蚀，可以实现DOE低成本、高良率的大规模量产。在存储领域，纳米压印技术可以展现其独特优势，目前已有商业应用落地。目前铠侠、SK海力士均拟布局纳米压印技术来制造存储芯片。二，纳米压印技术在特定领域有替代传统光学光刻的可能根据共研网数据显示，2022年全球纳米压印技术市场规模达到22.9亿美元，预计将于2029年实现55.9亿美元，2022-2029年复合增长率约为14%。
纳米压印设备市场中的海外参与者包括日本的佳能、奥地利的EVGroup、美国新泽西州的NanonexCorp、瑞典的ObducatAB、德国的SUSSMicroTec等公司。纳米压印设备市场中的国内参与者包括苏大维格、天仁微纳等公司。上海证券马永正研报认为，纳米压印技术在特定领域有替代传统光学光刻的可能，随着下游应用领域扩大以及该技术渗透率提升，该市场有望持续成长.
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